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半导体加工废水处理案例|半导体加工废水处理方法

顶目背景图片 该半导体技术设备制造业企业主处于珠三角地区型的地区,具体加工制造845英寸和1245英寸晶圆,日进行产生废供水量约2000吨。考虑到半导体技术设备加工制造施工工艺冗杂,生产生活污水组分丰富多彩且含多重难吸附物,制造业企业主原本补救生活设施始终无法 达到逐步坚持原则的的环保进行产生标准规范,故进行投资4000万元新砌职业 生产生活污水补救站。 废污水化学物质及由来 该工业企业生产废水一般分几类: 含氟废水处理:种类于晶圆蚀刻、清理多种工序,氟铝离子含量高至2000mg/L; 可挥发废水处理的工艺:原于光刻、显影液等的工艺,富含异丙醇、异丙醇等可挥发稀释剂,COD值在5000mg/L以内; 酸性废渣:制造于清洁和的表面工作缓解,pH值冲击大; 含铜废气:根据主轴电镀和金属制煤化工艺,铜阳离子氧化还原电位约150mg/L。 治疗工序流量 重要性的不同本质的工业废水,选择"类型自身+分质加工治疗+末段厚度加工治疗"的团体生产工艺: 含氟化工废水系统线: 多级物理化学乳浊液:先加药氯化钙调控pH至6-7,再加上入PAC和PAM二沉池乳浊液; 活力性脱色铝吸咐:切实保障氟铁离子浓度值降下来8mg/L以上。 有机会生产废水加工线: 微电解法不良反应:铁碳塑料填料床预治疗延长废液可什么是生化性; UASB活性污泥法反馈器:HRT=24h,COD取除率65%; MBR膜生物学反应迟钝器:选取PVDF弧形玻纤膜,溢水COD<50mg/L。 酸性污废水 结合操作系统: 自主pH调理:在在线视频监测网仪控住加酸加碱量; 斜板积累池积累:我们要除中合发生的悬浮物物。 含铜废水整理整理: 化学反应发展:加药NaOH调试pH至9-10,行成氢氧化的铜发展; 阴铁离子互相交换:抓实铜阴铁离子氨水浓度<0.3mg/L。 深入加工单元测试卷: 三氧离子液体氧化反应:加强组织领导骤挥发难工业制硝酸生物碳物; 几丁质酶炭滤出:取除对比度和少量被大气污染物; 紫外线清洗:有效确保出液微菌物统计指标标准。 以后目的 该项目工作后,冒水水的质量可靠以达到《智能实业水空气挥发性有机物进行直接排放量物原则》(GB 39731-2020)比较进行直接排放量物最大限度规范,在这当中氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜<0.3mg/L。年均可增多氟化物进行直接排放量物约120吨,COD进行直接排放量物约400吨,利用水資源约十万吨。系統自动的化成度高,工作价格操纵在8.5元/吨水前后。

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