半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法
该项目图片背景
本次目建在长江三角洲型位置某欧洲国家级别光电器件制造业校园内,企业主其主要生產8英尺和12英尺晶圆,东风日产量提供2万片。近年来产值增强,原本的的废水除理工艺除理系统的已没有办法提供安全规定,急缺升级成改建。业务总项目投资约1200万元,设计方案除理力量为300吨/日,于202半年起建投用。
工业废水材质及来自
该单位晶圆小学划片生产工艺产生了的污废水 主要涉及如下物质:
切工的时候中的使用的研磨抛光液使用量物,主要是组分为二防氧化硅粒状、表皮亲水性剂和生产增添剂
晶圆漆层家电清洗导致的含氟废污水,氟阳离子酸度在80-120mg/L
少量出高价属阴离子如铜、镍等,从何而来于分割平台破损
有机质高沸点溶剂农药残留,还包括异丙醇、甲苯等
pH值起伏更大,基本上在4-10直接
办理工艺技术步奏
真对生产废水优点,结构设计选取"物理化学预整理+生化学整理+深入整理"的乐队组合新工艺:
调低池
:义均环境质量用水量,装置pH在线免费监测设备和重新投加设备
水泥混凝土奠定
:污泥脱水PAC和PAM,弄掉悬浮物物和溶液物品
气浮象限
:应用溶气气浮方法进第一步彻底清除狗瘟粉末和地方生产物
生物化解决
:主要采用MBR膜生物技术响应器,污泥处理溶液浓度达到在8000-10000mg/L
深度的加工
:可溶性炭过滤+反渗透设备性生产技术,有效确保出液考核标准
工业废水办理
:板框废水压滤机甩干,废水水分含量率减少为60%下例
处置感觉
设计稳定性高正常运作后,出水量环境质量全可达到《電子化工业水被固体废弃物尾气排放物规范标准》(GB39731-2020)尤其尾气排放物限制值规定要求:
COD<30mg/L
氟亚铁离子<5mg/L
飘浮物<10mg/L
高价属贴心的售后服务指标体系均最低标准值
的项目每月可才能减少造成的排放出物排放出量约COD 32吨、氟化物8.5吨,使用水率可达75%大于,为中小型企业节省了煤气费支出费用约140万元/年。