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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8屏幕尺寸晶圆制造线整套搭配的超去离子水系统化,定期生成含硅废水解决的工艺150吨。废水解决的工艺中虽无巨资属,但硅成分高易结渣,且功率电阻率需可达到18MΩ·cm功能造纸废水解决。原来解决的工艺没办法需求新出台的《智能企业水环境固体废弃物尾气废气规则规则》(GB39731-2020)尤为尾气废气规则卫生防护距离。 废水处理材料优点和缺点 基本污染源物 :氢氧化铁硅(200-300mg/L)、粒状硅(孔径0.1-1μm) 特别标准要求 :TOC<10μg/L,硼量<5μg/L 水质量形态 :低纯水电导率(<50μS/cm)但硅单质特性复杂的 整理工艺技术具体流程 科学创新利用"梯级膜分离出来+电去铝离子"结合方法: 微滤预加工 :1μm瓷质膜截拦大粒状硅,通量形成80LMH 铝离子相互交换树脂胶 :D201大孔硅胶粘合剂挑选性粘附硅酸原子核 三级RO控制系统 :第一名段收售率60%,其二段所采用高脱硼膜器件 EDI电去铁离子 :工作电流溶解度2A/m²,长期祛除残留阴阳离子 UV紫外线消毒杀菌 :254nm分光光度计线分子量40mJ/cm² 枝术薄弱环节 建设专用型阻硅剂(无机胺类符合物),减慢膜污染破坏寿命3倍 EDI接口自主创新流道设计方案,硅剔除率不断提升至99.8% 线上硅分享仪(量测标准0.1-500μg/L)改变精准度管理 运转预期效果 经第三点方检验: 总硅从280mg/L减少为0.05mg/L 硼份量从8μg/L降到0.3μg/L 程序出售率从原40%加强至68% 膜换个周期时间缩短至5年,年操作资金降底35%

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